芯片研發的各個環節環環相扣。要想生產芯片，光刻機的問題是必須克服的一大困難。臺積電之所以在全球占支配地位，跟荷蘭光刻機制造商ASML的深度合作也很有關系。文章提到，ASML現有的光刻機技術就是臺積電的全世界邀約之下、美日歐大企業全部拒絕的情況下，ASML鋌而走險答應的——兩家頗有遠見的企業彼此的信任和肯定，成就了他們今天的市場占比。就目前來說，中國還尚未涌現這樣頗具野心、沉心研發的企業，成熟的科研環境也尚未成型，但是好消息也在向我們招手：ASML與中芯國際簽訂協議，將出售一批EUV光刻機給中國，燃眉之急將解，中國的芯片“卡脖子”現象有望緩解。此外，中科院長春光電所目前在研國產最好的EUV光刻機，成功后將用于7nm及以下制程，其分化出來的上海光機所在EUV核心的液滴錫靶領域取得了較大突破。盡管飽受各種制裁和技術困難，國產光刻機還是有所希望。

關于光刻機的故事：早在1997年，英特爾看到挑戰193nm的巨大難度，決心集合人類精英一起愚公移山，有點流浪地球的意思。他們說服了美國對高科技最開明的克林頓內閣，以公司形式發起了EUV LLC這樣的一個合作組織。

這個組織由英特爾和美國能源部牽頭，集合了當時還如日中天的摩托羅拉以及AMD，以及享有盛譽的美國三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室，勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室，投資兩億美元集合幾百位頂級科學家，從理論上驗證EUV可能存在的技術問題。

英特爾還力邀ASML和尼康加入EUV LLC，因為當時美國光刻已經不太行了。但此舉受到美國政府的阻撓，因為他們舍不得讓外國公司分享美國最前沿技術。

最終結果是尼康被排除在外，ASML做了一堆對美國貢獻的許諾后被允許加入。另外一家例外的非美國公司是英飛凌，它被允許和Micron一起加入EUV LLC。

無論如何，需要強調的是，在半導體制造中，光刻只是其中的一個環節，另外還有無數先進科技用于前后道工藝。

正是因為科學家們不屈不撓的努力，才使得我們在這個一切由芯片驅動的偉大時代，享受著各種手機、電腦、家電、汽車飛機和互聯網帶給我們的精彩生活。

毛主席說過，別人有的我們一定也要有！
舉全國之力造光刻機，是我們的必然選擇！